纳米压印光刻

Inkron 拥有先进的 EVG7200 纳米压印光刻（NIL）系统，用于压印衍射光学元件。此设备配备了光学定位系统、加热载台以及其他必要装置，旨在针对客户设计与所选树脂优化 NIL 制程。该工具可处理直径达 200 mm 的晶圆。EVG7200 设置于无尘室内，以确保最佳的产品质量。此外，设备齐全的实验室为各类项目提供支持，其产能可满足试点与小规模生产需求。

Inkron 的纳米压印树脂已正式上市，可配合客户的特定设计进行测试。这些树脂是衍射光学元件（DOE）的关键组成部分，典型应用包括增强现实（AR）波导、3D 传感器、激光雷达（LiDAR）及显示器。