奈米壓印微影

Inkron 擁有先進的 EVG7200 奈米壓印微影（NIL）系統，用於奈米壓印繞射光學元件。此設備配備光學定位系統、加熱載台以及其他必要設備，可針對客戶設計與所選樹脂優化 NIL 製程。該設備可處理直徑達 200 mm 的晶圓。EVG7200 設置於無塵室內，以確保最佳的產品品質。此外，設備齊全的實驗室可為各類專案提供支援，並具備試產與小規模生產的能力。

Inkron 的奈米壓印樹脂已商業化供應，可配合客戶的特定設計進行測試。這些樹脂是繞射光學元件（DOE）的關鍵組成部分，典型應用包括擴增實境（AR）光波導、3D 感測器、光達（LIDAR）及顯示器。