光学涂层

用于旋涂的高折射率纳米压印光刻(NIL)涂层材料

Inkron 适用于纳米压印光刻(NIL)的标准高折射率(RI)产品已针对 NIL 工艺进行优化,也可用作顶层涂层。我们特别注重最大限度提升其光学性能和工艺性能。此外,还可根据特定的折射率和厚度目标调整配方。

产品

折射率

固化方式

IOC-114 无溶剂

1.55

UV

IOC-115 溶剂

1.55

UV

IOC-172

1.7

UV

IOC-135

1.8

UV

IOC-133

1.9

UV

适用于旋涂的标准高折射率纳米压印光刻(NIL)产品

 

低折射率涂层

Inkron 的标准低折射率解决方案采用热固化方式,并具有优异的光学特性,包括无散射的高透射率和低雾度。IOC-560C 是一种不含粒子的材料,折射率为 1.12,是需要极低折射率应用的理想选择。 

 

产品

折射率

固化方式

IOC-560C

1.12

热固化